超纯水系统,EDI超纯水系统, 混床超纯水系统出水水质符合美国ASTM纯水水质标准、我国电子工业部电子级水质技术标准（18.2MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准）、我国电子工业部高纯水水质试行标准、美国半导体工业用纯水指标、日本集成电路水质标准、国内外大规模集成电路水质标准。

超纯水系统超纯水制备技术发展史：

超纯水系统第一代：预处理 -阳床-阴床-混床

创盈超纯水系统第二代：预处理 -反渗透-混床

超纯水系统第三代：预处理 -反渗透-电去离子（EDI）

阳床-阴床-混床离子交换设备:

创盈离子交换设备是利用阴、阳离子交换树脂的交换吸附性能，去除水中的各种阴、阳离子，达到去离子的目的，离子交换设备按单台设备分类，可分为阴床、阳床、混床。在水处理应用中，由阳床、阴床单组或阵列装置而成，后置混合离子交换器，能得到更高纯度的産出水，具有投资节省、工业成熟等特点。离子交换设备是制备高纯水的必要设备，广泛应用于电子、电镀、锅炉用水等领域，与RO、EDI设备组合后水质的电阻率可达到18.2MΩ.CM.

反渗透+EDI超纯水设备：

反渗透装置去除水中的溶解性盐类物质、细菌、热源等，然后使用连续电除盐装置进行深度脱盐，使産水电阻率达到15MΩ.cm以上，再采用电子级纯水树脂精混床精除盐，使産水电阻率达到18.2MΩ.cm，后处理采用紫外线杀菌器和精密过滤器隔绝细菌的二次污染，産水可达到国家电子级水的技术指标GB 11446.1-1997。

创盈新兴的光电材料生产、加工、清洗；LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、FPC/PCB线路板、电路板、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高，这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求。

超纯水系统,EDI超纯水系统, 混床超纯水系统应用场合：

☆电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

创盈☆电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

☆显像管和阴极射线管生产、配料用纯水

☆ 黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水

创盈☆液晶显示器的生产、屏面需用纯水清洗和用纯水配液

☆晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制

☆ 集成电路生产中高纯水清洗硅片

☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路

创盈☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏

创盈☆高品质显像管、萤光粉生产

创盈☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗

☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料

创盈☆实验室和中试车间　　

创盈☆汽车、家电表面抛光处理

创盈☆光电产品、其他高科技精微产品